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二氧化tai研磨分散機(jī)
  • 產(chǎn)品型號(hào):GMD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2025-12-21
  • 訪  問(wèn)  量:253
簡(jiǎn)要描述:

二氧化tai研磨分散機(jī)是針對(duì)二氧化tai粉體設(shè)計(jì)的專用設(shè)備,通過(guò)研磨腔高速剪切、沖擊與研磨介質(zhì)作用,實(shí)現(xiàn)粉體解聚、細(xì)化與均勻分散。它能解決二氧化tai易團(tuán)聚問(wèn)題,提升其在涂料、塑料等領(lǐng)域的分散性與光學(xué)性能,具備處理效率高、粒徑可控的優(yōu)勢(shì),滿足不同行業(yè)對(duì)二氧化tai分散質(zhì)量的要求。

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產(chǎn)品詳情

二氧化tai研磨分散機(jī)


【SID工業(yè)設(shè)備用于二氧化tai分散和研磨的優(yōu)點(diǎn)】

一、縮短工藝時(shí)間。SID高剪切乳化分散設(shè)備可以迅速地混合分散二氧化tai粉末,并消除結(jié)塊和團(tuán)聚。SID也提供PLD和PLC粉體/液體混合機(jī),將粉體直接加入液體,無(wú)需循環(huán)處理,一次性通過(guò)便可成型。

二、提高品質(zhì)。SID高剪切混合機(jī)可以打碎結(jié)塊粉體,并與液體充分混合。這樣可以改善產(chǎn)品光澤和透明度,這兩個(gè)特征由分散好壞直接決定。

三、減少資金投入。SID磨機(jī)可以程度縮小粒徑,達(dá)到窄粒徑分布。SID分散研磨設(shè)備的流量比同類研磨設(shè)備高出很多,但也可達(dá)到相類似的效果。模塊化設(shè)計(jì)的SID 2000系列產(chǎn)品,可以幫助客戶節(jié)約資金投資。

二氧化tai研磨分散機(jī)


【SID研磨分散機(jī)的簡(jiǎn)介】

GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)


【SID研磨分散機(jī)的簡(jiǎn)介】

GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

二氧化tai研磨分散機(jī)


二氧化tai研磨分散機(jī)設(shè)備參數(shù)表:

研磨分散機(jī)

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。






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